光學光電行業(yè)產品光學元器件、生物識別、薄膜光學面板、新型顯示、汽車電子、反光材料、半導體材料等。光電光學玻璃行業(yè)的超純水設備主要是為玻璃清洗時給超聲波提供超純水,鍍膜玻璃鏡片清洗超純水設備設計上,采用成熟、可靠、先進、自動化程度高的兩級RO+EDI+SMB除鹽水處理工藝,確保處理后的超純水水質出水電阻率達到18.2 MΩ.cm。關鍵設備及材料均采用國際主流先進可靠產品,采用PLC+觸摸屏控制,全套系統(tǒng)自動化程度高,系統(tǒng)穩(wěn)定性高。
在光學行業(yè)中,超純水常用于清洗光學鏡片、光纖及其他精密光學元件。這些元器件在制造過程中,若表面留有任何殘留物或污染物,都會影響其透光率、成像質量以及使用壽命。因此,使用超純水進行清洗,可以確保光學元件表面的潔凈度,提升其性能和可靠性。此外,超純水還用于鍍膜和光學加工過程中的清洗步驟,以保證產品的最終質量。
光電行業(yè)同樣依賴超純水,特別是在生產半導體和顯示器件時。半導體制造過程中需要極高的潔凈度,任何微小的顆?;螂x子污染都可能導致電路缺陷或產品失效。超純水用于晶圓清洗、化學機械拋光(CMP)清洗等工藝中,確保產品表面無污染。顯示器件的制造也需要超純水來清洗液晶面板和其他關鍵組件,以提高顯示質量和延長產品壽命。
超純水設備的設計通常采用先進的水處理技術,如反滲透(RO)和電去離子(EDI)技術。這些技術能夠有效去除水中的離子、微生物和有機污染物,生產出符合光學和光電行業(yè)標準的高純度水?,F(xiàn)代超純水系統(tǒng)通常具有高自動化程度,可以根據生產需要調整水質參數(shù),確保連續(xù)、穩(wěn)定地提供高質量的超純水。
半導體芯片用水主要在于前端晶棒硅切片冷卻用水,基板晶圓片檢測清洗用水,中段晶圓片濺鍍、曝光、電鍍、光刻、腐蝕等工藝清洗,后段檢測封裝清洗。
了解詳情太陽能光伏產業(yè)主要生產集中在多晶硅提純、拉單晶、多晶硅鑄錠、太陽能電池片等,這些生產工藝中主要動力需求包括:超純水,電源,特氣。
了解詳情光電光學玻璃行業(yè)的超純水設備主要是為玻璃清洗時給超聲波提供超純水。
了解詳情液晶面板生產大約50%以上工序中硅片與超純水直接接觸,有80%以上工序需要進行化學處理,而化學處理又與超純水有密切關系,并且直接與工件接觸,如果水質不純,就會導致器件性能下降,影響產品性能,進而影響了產品的良率。
了解詳情作為電解液的重要成分,水在電池中起著至關重要的作用,一般情況下的水中含有鈣鎂離子,固體顆粒、膠狀物質等導電物質,會縮短蓄電池的使用壽命,也不符合國家有關電池用水的標準規(guī)范,所以需要水質高的超純水作為電池電解液。
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