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光學(xué)光電超純水
時(shí)間:2017-09-29 作者:純水一號(hào)
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光學(xué)光電行業(yè)產(chǎn)品光學(xué)元器件、生物識(shí)別、薄膜光學(xué)面板、新型顯示、汽車電子、反光材料、半導(dǎo)體材料等。光電光學(xué)玻璃行業(yè)的超純水設(shè)備主要是為玻璃清洗時(shí)給超聲波提供超純水,鍍膜玻璃鏡片清洗超純水設(shè)備設(shè)計(jì)上,采用成熟、可靠、先進(jìn)、自動(dòng)化程度高的兩級(jí)RO+EDI+SMB除鹽水處理工藝,確保處理后的超純水水質(zhì)出水電阻率達(dá)到18.2 MΩ.cm。關(guān)鍵設(shè)備及材料均采用國(guó)際主流先進(jìn)可靠產(chǎn)品,采用PLC+觸摸屏控制,全套系統(tǒng)自動(dòng)化程度高,系統(tǒng)穩(wěn)定性高。

在光學(xué)行業(yè)中,超純水常用于清洗光學(xué)鏡片、光纖及其他精密光學(xué)元件。這些元器件在制造過(guò)程中,若表面留有任何殘留物或污染物,都會(huì)影響其透光率、成像質(zhì)量以及使用壽命。因此,使用超純水進(jìn)行清洗,可以確保光學(xué)元件表面的潔凈度,提升其性能和可靠性。此外,超純水還用于鍍膜和光學(xué)加工過(guò)程中的清洗步驟,以保證產(chǎn)品的最終質(zhì)量。

光電行業(yè)同樣依賴超純水,特別是在生產(chǎn)半導(dǎo)體和顯示器件時(shí)。半導(dǎo)體制造過(guò)程中需要極高的潔凈度,任何微小的顆?;螂x子污染都可能導(dǎo)致電路缺陷或產(chǎn)品失效。超純水用于晶圓清洗、化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)清洗等工藝中,確保產(chǎn)品表面無(wú)污染。顯示器件的制造也需要超純水來(lái)清洗液晶面板和其他關(guān)鍵組件,以提高顯示質(zhì)量和延長(zhǎng)產(chǎn)品壽命。

超純水設(shè)備的設(shè)計(jì)通常采用先進(jìn)的水處理技術(shù),如反滲透(RO)和電去離子(EDI)技術(shù)。這些技術(shù)能夠有效去除水中的離子、微生物和有機(jī)污染物,生產(chǎn)出符合光學(xué)和光電行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的高純度水?,F(xiàn)代超純水系統(tǒng)通常具有高自動(dòng)化程度,可以根據(jù)生產(chǎn)需要調(diào)整水質(zhì)參數(shù),確保連續(xù)、穩(wěn)定地提供高質(zhì)量的超純水。



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