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水處理領域整體解決方案供應商
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光學光電

手機面板、光學鏡片、光學玻璃清洗對超純水水質要求極高,帶電力離子和污垢會對鏡片產生不可逆損害,終端水質要求≥17.5MΩ*cm(25℃)。


技術要求

光電光學玻璃行業(yè)的超純水設備主要是為玻璃清洗時給超聲波提供超純水,鍍膜玻璃鏡片清洗超純水設備設計上,采用成熟、可靠、先進、自動化程度高的兩級RO+EDI+SMB除鹽水處理工藝,確保處理后的超純水水質出水電阻率達到18.2 MΩ.cm。關鍵設備及材料均采用國際主流先進可靠產品,采用PLC+觸摸屏控制,全套系統(tǒng)自動化程度高,系統(tǒng)穩(wěn)定性高。

標準

研磨是光學玻璃生產中決定其加工效率和表面質量(外觀和精度)的重要工序。

研磨工序中的主要污染物為研磨粉和瀝青,少數(shù)企業(yè)的加工過程中會有漆片。

其中研磨粉的型號各異,一般是以二氧化鈰為主的堿金屬氧化物。

根據(jù)鏡片的材質及研磨精度不同,選擇不同型號的研磨粉。

在研磨過程中使用的瀝青是起保護作用的,以防止拋光完的鏡面被劃傷或腐蝕。

玻璃研磨過后,需要用超純水進行產品的清洗,以獲得高品質的產品。

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