1. EDI操作電壓過(guò)高,電流無(wú)法調(diào)節(jié)增大:進(jìn)水硬度過(guò)高,EDI內(nèi)部結(jié)垢、EDI來(lái)水壓力過(guò)高等問(wèn)題,使EDI在運(yùn)行過(guò)程中經(jīng)常出現(xiàn)水錘現(xiàn)象。2. 如果EDI流量過(guò)低,水質(zhì)會(huì)惡化,壓差會(huì)增大:進(jìn)水的余氯、硬度和硅含量會(huì)過(guò)高。入水前沒(méi)有安全過(guò)濾器。3. EDI進(jìn)水正常,壓力正常,但水質(zhì)過(guò)低,樹(shù)脂的功能降低,大電流可再生。
了解詳情如果原水含鹽量高,建議使用雙極反滲透設(shè)備作為預(yù)脫鹽,其電導(dǎo)率最好保持在1—3μS/cm。進(jìn)水CO2含量高,建議使用脫氣膜或脫氣塔去除CO2。如果pH值偏離中性太大,則用pH值調(diào)節(jié),使EDI進(jìn)水的pH值保持在7—8。水中的微小離子和顆粒會(huì)積聚在EDI模塊的電極和離子交換樹(shù)脂上,降低去離子效率,導(dǎo)致電阻率下降。如果EDI設(shè)備中使用的脫鹽樹(shù)脂達(dá)到其吸附能力的極限,樹(shù)脂將不再能有效地去除離子,從而降低水的純度。
了解詳情滲透液流量下降或不穩(wěn)定: 檢查前置過(guò)濾器:預(yù)過(guò)濾器沒(méi)有堵塞或需要更換。 檢查壓力:檢查進(jìn)水壓力是否在正常范圍內(nèi),壓力過(guò)低可能導(dǎo)致產(chǎn)品水流量下降。 檢查膜元件:RO膜可能需要清洗或更換,特別是在長(zhǎng)時(shí)間使用后。
了解詳情?超純水制備設(shè)備中的水箱和鹽霧池是兩個(gè)不同的部件,在設(shè)備中具有不同的功能。鹽霧腐蝕檢測(cè)箱主要是利用鹽霧對(duì)原材料及其安全防護(hù)層的鹽霧腐蝕性能進(jìn)行檢測(cè)。霧蝕的能力。這里所說(shuō)的鹽霧主要是以純凈水或雙蒸水加一定量的氧化鈉溶液對(duì)噴霧設(shè)備或電子元器件進(jìn)行試驗(yàn)并模擬其抗鹽霧侵蝕的能力。
了解詳情鍋爐水的pH值應(yīng)在一定范圍內(nèi),以防止腐蝕或結(jié)垢問(wèn)題。典型的pH范圍在8.5和9.2之間。高含氧量會(huì)導(dǎo)致鍋爐水腐蝕。工業(yè)鍋爐經(jīng)常采取措施減少氧氣的存在。它的堿度和酸度水平需要控制,以保持水的中性或堿性,以減少腐蝕問(wèn)題。
了解詳情?所述的反滲透還原劑為有氣味的湖白色透明液體。水溶液呈酸性,微溶于醇。在空氣中易被氧化成硫酸鈉。具有很強(qiáng)的還原性,能與甲醛形成加合物。應(yīng)避光密封保存。反滲透還原劑是膜的專用還原劑,它進(jìn)入一定材料的膜系統(tǒng)。余氯量必須控制在一定值內(nèi),以避免對(duì)元件造成不可逆的損壞。將根據(jù)不同的水質(zhì)和工況條件,有針對(duì)性地調(diào)整主藥劑的配比和藥劑的生產(chǎn)工藝。
了解詳情